名称：钛靶材、钛多弧靶、钛平面靶、钛旋转靶
牌号： TA0, TAl, TA2, GRl, GR2
执行标准：符合GB/T 2695-1996 , ASTM B348-97
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射踱膜、工件表面涂层，玻璃踱膜工业等。
宝鸡市中扬金属材料有限公司专业生产真空镀膜用的各种钛靶、钛圆靶、钛管靶、钛饼靶、平面靶、钛铝靶ta1、ta2、tc4材质,规格可根据厂家要求制定， 纯度可达99.9%，镀膜应用中成膜均匀，膜层耐腐蚀耐摩性好,交货及时,保证质量，价格优惠.欢迎来电咨询。
