平板显示器制造用钛靶材是以高纯度钛(≥99.95%)或钛合金(如钛-铝/铜)为材质,通过真空熔炼和精密加工制成的高致密度(>99%)、低杂质(Fe/Si/O<100ppm)溅射材料,具有优异导电性、热稳定性及晶粒均匀性(晶粒度<50μm),适配旋转/固定溅射设备,广泛应用于LCD、OLED等显示面板的透明导电层、金属电极及柔性封装膜层的沉积。以下是中扬金属针对平板显示器制造用钛靶材的详细介绍:
一、钛靶材在平板显示器中的定义
项目 | 描述 |
定义 | 钛靶材是由高纯度钛或钛合金制成的平板或旋转溅射源,通过物理气相沉积(PVD)工艺形成透明导电层、光学薄膜或电极,用于LCD、OLED、Micro-LED等显示面板制造。 |
核心用途 | 透明导电氧化物(TCO)层、光调节层、电极及抗反射涂层的核心成膜材料。 |
形态特征 | 尺寸:长边1000-3000mm(适配G8.5-G10.5代线)、厚度10-30mm;表面粗糙度≤0.05μm(Ra)。 |
二、常用材质与成分
分类 | 成分与纯度 | 适用场景 |
纯钛靶(4N) | Ti≥99.99%,杂质总量≤500ppm | 基础电极层、粘附层(如OLED阳极) |
钛合金靶 | Ti-Al(Al 10-30%)、Ti-Si(Si 5-15%) | 透明导电层(ITO替代)、高折射率光学薄膜(TiO₂) |
反应溅射靶 | Ti-Mo(Mo 5-10%)、Ti-W(W 5-10%) | 柔性显示电极(低电阻、高柔韧性) |
复合靶材 | Ti-Ag(Ag 1-5%)、Ti-Cu(Cu 3-8%) | 高反射率背板(Mini-LED/Micro-LED) |
三、性能特点
性能指标 | 具体表现 |
透光性 | Ti-Al合金靶溅射薄膜可见光透过率≥85%(波长550nm),电阻率≤5×10⁻⁴Ω·cm(优于传统ITO)。 |
均匀性 | 大尺寸靶材(3000mm)膜厚不均匀度≤3%(G10.5代线要求)。 |
柔韧性 | 钛-钼合金靶薄膜弯折10⁴次(R=3mm)电阻变化≤5%,适配柔性OLED折叠屏。 |
热稳定性 | 高温(400℃)退火后无龟裂,与玻璃/PI基板热膨胀系数匹配(CTE 8-9×10⁻⁶/℃)。 |
环保性 | 无铟(In-Free)替代ITO,解决铟资源稀缺与毒性问题。 |
四、执行标准
标准类型 | 标准编号 | 覆盖内容 |
国际标准 | SEMI F72-1101 | 显示面板用钛靶材表面质量与洁净度规范 |
行业规范 | ASTM F1710 | 透明导电薄膜用钛合金靶材光电性能测试方法 |
中国国标 | GB/T 3620-2016 | 钛靶材尺寸公差与晶粒取向要求(适配G8.5以上世代线) |
特殊规范 | JEITA ED-4706 | 显示器件用钛基薄膜机械与光学特性标准 |
五、加工工艺与关键技术
工艺环节 | 关键技术 |
熔炼提纯 | 电子束冷床炉(EBCHM)提纯至4N级,控制氧含量≤200ppm。 |
轧制与退火 | 多向热轧(交叉轧制率≥80%)优化织构,真空退火(750℃/6h)消除内应力。 |
精密加工 | 超长行程磨床(直线度≤0.01mm/m),表面镜面抛光(Ra≤0.02μm)。 |
绑定技术 | 爆炸焊接(Titanium-Clad)将钛靶与铜背板结合,热导率≥200W/m·K。 |
洁净包装 | 无尘室(Class 10)真空封装,颗粒污染控制(≥0.3μm颗粒≤10个/m²)。 |
六、具体应用领域
应用场景 | 薄膜功能 | 靶材类型 | 性能要求 |
LCD面板 | ITO替代透明电极(Ti-Al-O) | Ti-Al合金靶+反应溅射(O₂) | 方阻≤10Ω/□,透过率≥88% |
OLED阳极 | 阳极粘附层(Ti/TiN) | 高纯钛靶+反应溅射(N₂) | 厚度均匀性≤2%,粗糙度Ra≤1nm |
量子点显示 | 高折射率封装层(TiO₂) | 纯钛靶+反应溅射(O₂) | 折射率≥2.4(550nm),无针孔 |
Mini-LED | 反射层(Ti-Ag/Ti-Cu) | Ti-Ag复合靶 | 反射率≥95%(450-650nm) |
柔性显示 | 可弯折电极(Ti-Mo) | Ti-Mo合金靶 | 弯折寿命>20万次(R=1mm) |
七、与其他靶材的对比分析
对比项 | 钛靶材(Ti-Al) | ITO靶材(In₂O₃-SnO₂) | 银靶材(Ag) |
导电性 | 方阻5-10Ω/□ | 5-15Ω/□ | 0.5-1Ω/□ |
透光性 | 85-90% | 85-90% | 反射层(不透明) |
成本 | 中(钛资源丰富) | 高(铟资源稀缺) | 极高(银价波动大) |
柔韧性 | 优(弯折无裂纹) | 差(脆性大) | 优(延展性好) |
环保性 | 无铟、无毒 | 含铟(回收难) | 需防硫化(易发黑) |
八、未来发展新方向
方向 | 技术突破 | 潜在应用 |
超大尺寸靶材 | 开发G11代线(3370mm×2940mm)钛靶一体成型技术 | 降低65英寸以上8K面板制造成本 |
纳米结构靶 | 纳米晶钛合金靶(晶粒≤50nm)提升薄膜致密度与导电性 | 超高清Micro-LED巨量转移电极 |
柔性适配 | 钛-石墨烯复合靶(厚度≤0.1mm)实现卷对卷(R2R)溅射工艺 | 可折叠/可拉伸显示器件 |
光学定制化 | 梯度成分钛靶(Al含量渐变)实现宽光谱减反射(400-800nm) | AR/VR透镜抗反射涂层 |
绿色制造 | 钛靶废料电解回收技术(回收率>95%),降低碳足迹 | 满足欧盟RoHS/REACH环保要求 |
智能化监控 | 溅射过程AI实时调控(等离子体光谱分析+膜厚反馈) | 零缺陷薄膜连续生产 |
总结
平板显示器制造用钛靶材是推动显示技术革新的关键材料,其核心价值在于“高透、低阻、柔韧、环保”四位一体性能。未来需聚焦:
超大化与柔性化:适配G11+代线与柔性显示需求;
光电性能极限:开发可见光-近红外全波段调控的钛基薄膜;
循环经济:构建钛靶材“开采-制造-回收”闭环,解决资源与成本瓶颈。